Impianti per la deposizione sotto vuoto di rivestimenti rinforzanti

La combinazione nell’impianto per la deposizione sotto vuoto delle sorgenti tecnologiche diverse per la loro costruzione; magnetron, sorgenti ioniche, evaporatoriad arco con e unità di alimentazione e comando moderne, nonché di altri apparecchi e sistemi permette di formare i rivestimenti rinforzanti dalle proprietà elevate e la reproducibilità da un ciclo ad un altro.

Preventivo

Caratteristiche tecniche:

1.Dimensioni delle camere:

Diametro, mm - 500-2000
Altezza o lunghezza, mm - 500-2500
Camere a vuoto verticali ed orizzontali.

2. Il sistema a vuoto può esser costruito con l’uso di vari mezzi di scarico.
3. Sorgenti tecnologiche:

Evaporatori ad arco
Sorgenti ioniche
Magnetron sputtering.

4. Alimentatori ad impulso.

La modernizzazione insignificante dell’ impianto per la deposizione sotto vuoto, può garantire l’applicazione di rivestimenti al diamante (DLC). L’impianto può funzionare sia nel regime manuale, sia in quello automatico secondo un programma prestabilito per mezzo del computer personale.

Dopo la polverizzazione a vuoto si osserva l’aumento della risorsa di esercizio di strumenti in alcune volte:

Piastrine taglienti in 2 - 5 volte.
Coltelli tecnologici in 10 - 14 volte.
Forme per la pressa in 3-5 volte.
Stampi in 3-4 volte.
Punte, frese, marchiatori in 2 - 4 volte.
Bisturi medici in 2- 4 volte.

Macchina per deposizione PVD permette di applicare i rivestimenti a vuoto seguenti:

rivestimenti a vuoto monostrato: TiN; TiCN; ZnN; CrN; AlCrN ed altri.,
rivestimenti a vuoto multistrato: TiN-TiCN-TiC; TiN-TiAlN-AlTiN-Al2O3 ed altri.

Lavori in corso, video di processo: