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Impianti per la deposizione sotto vuoto di rivestimenti ottici

L’impianto per la deposizione sotto vuoto permette di applicare rivestimenti ottici multistrato di largo uso nel regime automatico: antiriflesso, riflessivi, interferenziale, polarizzanti, conduttivi, protettivi, rivestimenti che assorbono la luce ed altri.

Caratteristiche techniche:
  1. Dimensioni delle camere:
    • Diametro, mm - 700-1500
    • Altezza o lunghezza, mm - 800-1500
    • Camere a vuoto verticali.
  2. Oltre ai mezzi di scarico tradizionali, si usano anche pompe criogeniche e turbomoleculari.
  3. Equipaggiamento tecnologico può esser dotato sia di comando di rotazione inferiore, sia quello superiore, con la cupola di ricambio, di azione planetaria
  4. Sorgenti tecnologiche:
    • evaporazione termica
    • sorgenti di gas ioniche 
    • evaporatori resistenti con il dosatore della sostanza polverizzata 
    • sorgenti con magnetron.
  5. Banchi di alimentazione e comando dell’impianto prevedono l’uso di pezzi di ricambio dalla Gran Bretagna, Germania, Giappone, gli Stati Uniti.

L’impianto PVD garantisce l’effetuazione del processo tecnologico in regime automatico, con la visualizzazione di tutte le caratteristiche sullo schermo del computer.

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